CIP在位(wèi)清洗係統廠家
| 更新時間: | 2025-08-19 |
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| 型 號: | |
| 報 價: | 230000 |
CIP在位清洗係統廠家主(zhǔ)要有(yǒu)單個或(huò)多(duō)個清洗液貯罐及管道、分(fēn)布(bù)器、增壓泵、回(huí)流泵、氣動控製閥、酸堿計量泵、板(bǎn)式換熱器、溫度控製儀、電導率檢測儀、液位(wèi)控(kòng)製儀、PLC觸摸屏及控製櫃等部件組成。
CIP在(zài)位清洗係統廠家的詳細資料:
CIP在位清洗係統廠家產品簡介
是藥品生(shēng)產(chǎn)中衛生(shēng)標準的(de)前提條件之一(yī),它(tā)可以(yǐ)消除活性成(chéng)分(fēn)交叉(chā)汙染,消除異物(wù)不溶性微粒。降低或(huò)消除微生物及(jí)熱源對藥品的汙染。CGMP要求盡力(lì)推薦製藥工(gōng)業使(shǐ)用CIP在線清洗係統。我(wǒ)公(gōng)司(sī)產(chǎn)品(pǐn)具有(yǒu)自動化(huà)程度高、操作簡便,清洗*、安(ān)全性高(gāo)、價(jià)格合理(lǐ)等優點。
CIP在(zài)位清洗係統廠家主(zhǔ)要特點
• CGMP設計緊湊、安(ān)裝、維護和調試簡便;氣動元(yuán)件(jiàn)及電器元件全(quán)部采用進口,性能穩定可靠;用功(gōng)能塊組(zǔ)成(chéng)的模塊結構,可(kě)分手控、自控(kòng)選擇、觸摸屏提示(shì)操作(zuò),直觀易懂;
• 清除藥物殘留,防止微生物(wù)汙染,避免批次之間的影響;
• 符合CGMP要求(qiú),實(shí)現清洗工(gōng)序的(de)驗證;
• 能使生產計劃合(hé)理化(huà)及(jí)提高生產能力(lì);
• 按程序(xù)安(ān)排步(bù)驟進行,與手洗作業比較,能(néng)有(yǒu)效(xiào)的防止操作失(shī)誤,提高(gāo)清洗效率,減少勞動強(qiáng)度,節省勞動力(lì)提高藥品(pǐn)質(zhì)量;
• 使(shǐ)清洗成本降低、水(shuǐ)、清洗劑及蒸汽的耗量少;
• 能增(zēng)加機(jī)器部件(jiàn)的使用年(nián)限;
• 安(ān)全可(kě)靠、設備無須拆(chāi)卸。
主(zhǔ)要構(gòu)成
主要有單個或多個清洗液貯罐及管道、分布器、增(zēng)壓泵、回(huí)流泵、氣動控製閥、酸堿計量泵、板(bǎn)式(shì)換熱器、溫度控(kòng)製儀、電導率檢測儀、液位控(kòng)製儀、PLC觸摸屏及(jí)控(kòng)製櫃等部件(jiàn)組(zǔ)成。
產品說明
CIP清洗係統是指設備(罐體、管(guǎn)道、泵、過濾器等)及整個生產(chǎn)線在(zài)無需人(rén)工拆卸或(huò)打開(kāi)的前提下(xià),在一(yī)個預定時間內,將一定溫度的(de)清潔液通過密閉的管道對設備內表麵進行噴淋循環(huán)而達到(dào)清洗的目的(de),特稱CIP在(zài)線清洗係統(Cleaning in place)。一(yī)個穩定的CIP在(zài)線清洗係統在於優良的(de)設計,包括設備、管道、操作規程、清洗劑配方、自動控製和監控要求的一整套技術係統等。根據(jù)清洗係統的(de)實際情況,確定合(hé)適的清洗程序,包括清洗條件(jiàn)確定,清洗劑選擇、回收設計。並對清洗過程中(zhōng)關鍵參數和條件(如時間、溫度、流量、電導率)的記錄、打(dǎ)印,做為設備清洗過程的驗證(zhèng)。

